真空烧结炉的用途：  

    适用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。  

真空烧结炉的性能特点：  

    1.该真空烧结炉设备为实验室常用的周期式实验设备。  

    2.该回转炉设备为动态煅烧，加热炉管可规律旋转，物料在炉内受热均匀，无生烧过烧现象。  

    3.真空烧结炉炉体采用可开启式结构，双层炉壳，可实现空气循环隔热；采用优质碳钢表面除锈并静电喷塑，符合国际实验室标准。  

    4.炉管采用进口耐热合金（该炉配置非金属内胆），高温烧结无挥发物，安全环保，符合国际行业标准。  

    5.加热元件采用优质含钼电阻丝，硅碳棒，硅钼棒等加热元件，根据炉膛大小功率合理布棒，炉温均匀性良好。  

    6.温度控制采用PID模式，当仪表程序设定完成后，只要按下运行按钮，接下来的升温及降温工作都会自动完成，无需人工等待。  

    7.本机对于工作中的超温情况会发出报警信号，并自动完成保护动作。  

    8.该设备为多点测温，控制面板上设有电源指示灯和加热指示灯，可随时视察设备工作状态。  

    9.该设备可配合真空泵后可以抽负压，压升率不高于一个固定的值。