气氛烧结炉

简要描述：气氛烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。

更新日期：2024-11-08
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　　设备简介

　　气氛烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。

　　技术特点

　　1、立式设计，使装卸与维修工作更为简便，整个工艺过程自动控制；

　　2、温度均匀性好：采用特殊的炉胆结构和加热器布置，炉温均匀性好；

　　3、脱脂效果好：采用特殊结构脱脂箱，密封效果好，脱脂对炉内元件无污染；

　　4、功能多：具备真空烧结、压力烧结、负压脱脂等功能；

　　5、设计优化好：加热室热场经热态模拟计算，具有非常高的温度均匀性、配置的加热元件及隔热层采用模块化优化设计；

　　6、安全性高：具有超温超压等故障报警，机械式自动压力保护，动作互锁等功能，设备安全性高；

　　7、设备可选择配置脱脂系统，实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。

产品型号

编号	产品型号	加热材质	设备形式	取料方式	有效工作区（mm）	最高温度（℃）	气体压力（MPa）	极限真空（Pa）	适用工艺
G3VGR16/20	PVSgr-30/50-T	石墨	立式	下取料	Φ300×500	1600/2000	10	10Pa	烧结/分压烧结/脱脂/氢气
G5VGR16/20	PVSgr-50/80-T	石墨	立式	下取料	Φ500×800	1600/2000	6/10	10Pa	烧结/分压烧结/脱脂/氢气
G7VGR16/20	PVSgr-70/250-T	石墨	立式	上下取料	Φ700×2500	1600/2000	6/10	10Pa	烧结/分压烧结/脱脂/氢气

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